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Process & Maintenance Engineer (w/m/div.)

Robert Bosch Semiconductor Manufacturing Dresden GmbH · Dresden

de
SPC Thinning Dicing MEMS-Mehrwaferprozesse

Stellenbeschreibung

Über die Position

Als Process & Maintenance Engineer (w/m/div.) sorgen Sie gemeinsam mit Ihrem Team für eine hohe Produktionsverfügbarkeit und die fachgerechte Durchführung von Wartungsmaßnahmen im Pre‑Assembly‑Bereich unserer Halbleiterfertigung.

Hauptaufgaben

  • Überwachung und Sicherstellung der Verfügbarkeit aller Anlagen im Pre‑Assembly (Thinning, Dicing, zukünftige MEMS‑Mehrwaferprozesse).
  • Beurteilung von Anlagenfehlern, Retournierung und Nachbearbeitung von Wafern inklusive Dokumentation.
  • Kontinuierliche Überwachung von Wafern im Prozess (WIP) und rechtzeitige Bearbeitung von Hold‑Material.
  • Durchführung geplanter und ungeplanter Wartungen unter Einhaltung sicherheitsrelevanter Vorgaben.
  • Steigerung der Maschinen‑Uptime und Anlagenstabilität mittels SPC‑Methoden.
  • Mitarbeit bei Anlageninbetriebnahmen und Erstellung von Handlungsanweisungen sowie Checklisten.
  • Detaillierte Dokumentation aller Instandhaltungsmaßnahmen in den entsprechenden Systemen.
  • Enge Zusammenarbeit mit internen Teams und externen Servicepartnern im 6‑Tag‑Arbeit‑/4‑Tag‑Freizeit‑Schichtmodell.

Anforderungsprofil

  • Abgeschlossene technische Berufsausbildung als Elektriker, Mechatroniker oder Mechaniker, idealerweise mit Erfahrung in der Halbleiterindustrie oder einem Techniker‑/Meisterabschluss.
  • Teamfähigkeit, Flexibilität, hohe Motivation, Belastbarkeit und Verantwortungsbewusstsein.
  • Selbstständige, eigenverantwortliche und lösungsorientierte Arbeitsweise.
  • Sehr gute Deutsch‑ und gute Englischkenntnisse in Wort und Schrift.

Erforderliche Kenntnisse

  • Statistical Process Control (SPC) zur Optimierung der Anlagenstabilität.
  • WIP‑Überwachung und Handling von Wafern im Pre‑Assembly.
  • Kenntnisse in Thinning‑ und Dicing‑Prozessen sowie zukünftigen MEMS‑Mehrwaferprozessen.
  • Erfahrung mit Instandhaltungs‑ und Dokumentationssystemen.

Questions fréquentes

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Source : ats:smartrecruiters

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Veröffentlicht vor 4 Monaten

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